Статья:

Особенности формирования нанокристаллов силицида железа α-FeSi2 на поверхности кремния Si(001) и Si(111)

Конференция: XXII Международная научно-практическая конференция «Научный форум: технические и физико-математические науки»

Секция: Физика и технология наноструктур, атомная и молекулярная физика

Выходные данные
Тарасов И.А., Яковлев И.А., Рауцкий М.В. Особенности формирования нанокристаллов силицида железа α-FeSi2 на поверхности кремния Si(001) и Si(111) // Научный форум: Технические и физико-математические науки: сб. ст. по материалам XXII междунар. науч.-практ. конф. — № 3(22). — М., Изд. «МЦНО», 2019. — С. 29-33.
Конференция завершена
Мне нравится
на печатьскачать .pdfподелиться

Особенности формирования нанокристаллов силицида железа α-FeSi2 на поверхности кремния Si(001) и Si(111)

Тарасов Иван Анатольевич
канд. физ.-мат. наук, научный сотрудник лаб. ФМЯ, ИФ СО РАН, РФ, г. Красноярск
Яковлев Иван Александрович
канд. физ.-мат. наук, научный сотрудник лаб. ФМЯ, ИФ СО РАН, РФ, г. Красноярск
Рауцкий Михаил Владимирович
младший научный сотрудник лаб. ФМЯ, ИФ СО РАН, РФ, г. Красноярск

 

Работа поддержана Российским Фондом Фундаментальных Исследований, проект №. 18-32-00981.

 

Аннотация. В настоящей работе сообщается о росте ансамблей нанокристаллов α-FeSi2 на активированных золотом и не содержащих золота поверхностях Si(100) и Si(111) методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Обсуждается влияние соотношения потоков Si/Fe на образо­вание нанокристаллов α-FeSi2. Были проанализированы микроструктура и ориентационные соотношения (ОС) между нанокристаллами силицида и кремниевой подложкой. Исследование показывает, что использование золота в качестве катализатора регулирует предпочтительное ОС нанокристаллов с кремнием и их огранку. Предварительные магнитные и электрические измерения показывают, что металлические нанокристаллы α-FeSi2 с разными значениями OR имеют разные магнитные моменты и энергию барьера Шоттки перехода металл-полупроводники. Вольтам­перная характеристика гетероструктур α/Si показывает хорошую линейность в широкой области температур.

 

Ключевые слова: кремний; силицид железа; преимущественная ориентация; нанокристаллы; эндотаксия.

 

Наноструктуры на основе силицидов железа имеют широкий спектр возможных применений в различных областях электроники [1-8]. Интерес к этим материалам вызван их экологической безопасностью и широким распространением в земной коре. Силициды железа FeSi2, богатые кремнием, имеют не менее яркие возможности применения. Полупроводниковая фаза β-FeSi2 может использоваться как активный материал в фотонных кристаллах, а также для фотовольтаики, термо­электричества. Благодаря возможному прямому переходу с энергией, близкой к 0,87 эВ, данный материал может быть использован в качестве активного материала в светоизлучающих диодах инфракрасного диапазона [9]. Сообщается, что металлический α-FeSi2 применяется в качестве материала электрода к кремнию или β-FeSi2 с хорошими омическими характеристиками [10]. Эта фаза может также исполь­зоваться для формирования барьерных контактов Шоттки, локальных межсоединений и диффузионных барьеров.

Фаза α-FeSi2 относится к тетрагональной кристаллической системе (P4mmm) с параметрами решетки a, b = 2,684 Å, c = 5,128 Å [10], где атомы Fe образуют квазидвумерную структуру и расположены в плоскостях α{001} разделенных двумя плоскостями, образованными атомами кремния. Парамагнитная и метастабильная в объемных условиях фаза α-FeSi2 в наномасштабе, как сообщается, может демонстрировать ферромагнитные свойства с намагниченностью выше чем чистое железо. Наряду с этим считается, что такие квазидвумерные соединения, как α-FeSi2, могут обнаруживать высокотемпературную сверхпроводимость.

Для того, чтобы вызвать изменения в процессе формирования и, как следствие, в физических свойствах, использовались изменение потока Si / Fe и поверхности кремния без золота или активированной золотом поверхности кремния. Нанокристаллы α-FeSi2 были сформи­рованы на вицинальной поверхности подложек кремния p-Si(100) и Si(111) с разориентацией от базовой плоскости равной 1˚ (ρ ~ 5-10 Ом·см) при 840 °C методом молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ) в условиях сверхвысокого вакуума. Перед синтезом подложка Si была химически очищена. Чтобы получить атомно-чистую поверхность кремния, пластина подвергалась температурной обработке при 850-900 ˚C до тех пор, пока на картине дифракции отраженных быстрых электронов не появилась хорошо упорядоченная подложках (2×1) или (7x7). После охлаждения образца до комнатной температуры слой Au с различной номинальной толщиной (0-50 нм) осаждался из эффузионной ячейки Кнудсена на поверхность подложки со скоростью 0,25 нм/мин. Затем для выращивания нанокристаллов α-FeSi2 температуру подложки увели­чивали до 840 ˚C, и Fe и Si наносились одновременно с различным соотношением состава Si / Fe в диапазоне 0 - 2.

 

Рисунок 1. Изображения ПЭМ нанокристаллов α(001)//Si(001) с различной огранкой

 

В результате примененные методики привели к разнообразию физических свойств полученных нанокристаллических ансамблей α-FeSi2. Было показано, что увеличение количества железа в осаждаемом потоке приводит к образованию большей доли эндотаксильных нанокристаллов α-FeSi2(001) с огранкой плоскостями α(001) и α(11n), активированной золотом (рис. 1). В отсутствие катализатора предпочтительной ориен­тацией является α(111)/Si(001). При изменении преимущественной кристаллографической ориентации и напряжений кристаллической решетки нанокристаллов α-FeSi2, вызванных несоответствием между кристаллическими решетками силицида α-FeSi2 и кремния, возможно контролируемое увеличение намагниченности системы (рис. 2). Кроме того, нанокристаллы α-FeSi2 можно использовать в качестве омического контакта с кремнием, где нижний предел температуры омического контакта можно варьировать путем изменения преимущественной ориентации нанокристаллов α-FeSi2 на кремнии. Эффект достигается за счет изменения высоты барьера Шоттки, образованного на границе раздела силицид / кремний.

 

Рисунок 2. а) Температурная зависимость магнитного момента в образцах с преимущественными ориентациями на α(001) и на α(111); б) полевые зависимости для указанных образцов

 

В заключение отметим некоторые результаты, на которые стоит обратить внимание. В работе была показана возможность преобразования парамагнитной фазы α-FeSi2 в ферромагнитное состояние. Деформация решетки, вызванная специфическим эпитаксиальным соотношением с подложкой приводит к появлению магнитного момента в диапазоне от 0,1 до 0,2 μB/Feat. Было также показано, что изменение атомного расположения интерфейсного слоя α-FeSi2/Si изменяет высоту барьера Шоттки. Таким образом, эта работа демонстрирует возможность контро­лируемого изменения физических свойств богатых кремнием силицидов железа для достижения желаемого отклика на приложенные силы.

 

Список литературы: 
1. I.A. Tarasov, Z.I. Popov, S.N. Varnakov, M.S. Molokeev, A.S. Fedorov, I.A. Yakovlev, et al., Optical characteristics of an epitaxial Fe3Si/Si(111) iron silicide film, JETP Lett. 99 (2014) 565–569. doi:10.1134/S0021364014100105.
2. S.G. Ovchinnikov, S.N. Varnakov, S.A. Lyashchenko, I.A. Tarasov, I.A. Yakovlev, E.A. Popov, et al., Iron silicide-based ferromagnetic metal/semiconductor nanostructures, Phys. Solid State. 58 (2016) 2277–2281. doi:10.1134/S1063783416110299.
3. I.A. Yakovlev, I.A. Tarasov, S.A. Lyashchenko, High uniaxial magnetic anisotropy of the Fe1−xSix films synthesized by MBE, J. Magn. Magn. Mater. (2016) 0–1. doi:10.1016/j.jmmm.2016.12.051.
4. H. Tokushige, T. Endo, K. Hiidome, K. Saiki, S. Kitamura, T. Katsuyama, et al., Photonic crystals composed of β-FeSi2 with amorphous Si cladding layers, Jpn. J. Appl. Phys. 54 (2015) 07JB03. doi:10.7567/JJAP.54.07JB03.
5. Z. Liu, S. Wang, N. Otogawa, Y. Suzuki, M. Osamura, Y. Fukuzawa, et al., A thin-film solar cell of high-quality β-FeSi/Si heterojunction prepared by sputtering, Sol. Energy Mater. Sol. Cells. 90 (2006) 276–282. doi:10.1016/j.solmat.2005.03.014.
6. Y. Gao, H.W. Liu, Y. Lin, G. Shao, Computational design of high efficiency FeSi2 thin-film solar cells, Thin Solid Films. 519 (2011) 8490–8495. doi:10.1016/j.tsf.2011.05.030.
7. M. Mohebali, Y. Liu, L. Tayebi, J.S. Krasinski, D. Vashaee, Thermoelectric figure of merit of bulk FeSi2-Si0.8Ge0.2 nanocomposite and a comparison with β-FeSi2, Renew. Energy. 74 (2015) 940–947. doi:10.1016/j.renene.2014.08.059.
8. W. Li, C. Wen, M. Yamashita, T. Nonomura, Y. Hayakawa, H. Tatsuoka, Effect of Cu or Co addition on β-FeSi2 growth by molten salt method, J. Cryst. Growth. 340 (2012) 51–55. doi:10.1016/j.jcrysgro.2011.11.059.
9. D. Leong, M. Harry, K.J. Reeson, and K.P. Homewood, Nature 387, 686 (1997).
10. I.A. Tarasov, I.A. Yakovlev, M.S. Molokeev, M. Rautskii, I.V. Nemtsev, S.N. Varnakov, and S.G. Ovchinnikov, Mater. Lett. 168, 90 (2016).